Вакуумное напыление

Термин вакуумное напыление описывает группу процессов, суть которых заключается в покрытии элементарными частицами, в частности атомами элементов, поверхность изделия. Подобные действия происходят в вакууме, чтобы предотвратить возникновение любых возможных помех или реакций с частицами газа, такого как кислород, который обладает высокой реакционной способностью. Очень тонкий слой наносимого вещества принято называть пленкой, в то время как достаточно толстый – покрытием. Вакуумное напыление служит множеству различных целей, таких как защита от повреждения, коррозии, окисления; приданию необходимых оптических особенностей поверхности и многому другому.

Наиболее часто используемые методы вакуумного напыления в Москве подразумевают учет основных аспектов в процессах парообразования и конденсации. Вещество, которое используется для покрытия изделия, принудительно подвергается испарению и последующей конденсации в виде готового слоя. В других случаях испаряемое вещество вступает в реакцию с поверхностью, образовывая при этом пленку необходимой толщины и функциональности. Температура, давление, плотность веществ – то, чем можно манипулировать с целью получения желаемого результата. Эти факторы могут влиять на толщину слоя и его сцепление с поверхностью, поэтому на протяжении всего процесса напыления важно следить за их правильной регулировкой.

Физическое вакуумное напыление – напыление в безвоздушной среде, в которой происходят физические процессы и отсутствуют химические реакции. Данный метод используется в основном для покрытия поверхностей тонкими пленками. Электронно-лучевое напыление – применяемый процесс в физическом вакуумном напылении. Используемое газообразное вещество нагревается и испаряется электронным пучком (термоэлектронная эмиссия) прежде чем образовать конденсат на поверхности обрабатываемого изделия.

Химическое вакуумное напыление – форма вакуумного напыления, при которой для получения пленки или/ и полного покрытия площади изделия и придания ему функциональных особенностей используются химические процессы. Химические вещества, такие как нитрид кремния и поликристаллический кремний могут реагировать с поверхностью лишь при одном условии - нахождение в вакууме.

Вакуум – неотъемлемая часть установки для создания напыления. Подробнее про вакуумные установки в Москве тут. Наличие в камере безвоздушного пространства позволяет технологам и ученым контролировать состав среды и таким образом создавать покрытия любой консистенции и подходящего размера.